美光获2000亿日元补贴用于生产新一代内存芯片

日本这两年已把半导体作为重点来抓,除了重金支持国内公司量产2nm工艺之外,还拉拢了台积电、三星、Intel等全球半导体7大巨头在日本投资建厂,其中美光就获得了2000亿日元补贴。

据报道,日本方面给予美光2000亿日元的补贴,约合15亿美元,主要用于采购EUV光刻机,安装在日本广岛地区的芯片工厂,用于生产新一代内存芯片。

美光在获得巨额补贴之后,也投桃报李,宣布在日本增加5000亿日元的投资,用于生产下一代DRAM内存芯片,也就是1-gamma节点工艺的。

在内存工艺进入10nm级别之后,生产制造也越来越困难,需要先进的EUV光刻机,三星、SK海力士两大内存公司都已经在14nm节点之后转向EUV光刻工艺。

按照美光的计划,从2025年起会加大生产1-gamma节点内存的生产力度。

推荐内容